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原薬・医薬等中間体・化成品岩城製薬株式会社の原薬・医薬等中間体・化成品の受託について、特長などをまとめています

プロセス開発からGMPバルク生産まであらゆる受託に対応

長年蓄積した合成技術により、開発段階から生産まで、
あらゆる受託に円滑に対応いたします。

GMP少量生産対応の新プラント完備により、
既存のGMP対応自動制御大型設備や高性能マルチパーパス設備と合わせ、
少量から大型ロット生産まで、さまざまなニーズに柔軟に対応できる生産能力を備えております。

c-GMP、ICHに準拠し、DMF、CEP登録、FDA査察経験に裏打ちされた
徹底した品質管理体制のもと、お客様にご満足いただける受託サービスをご提供いたします。
またEHS(Environment、Health、Safety )投資に積極的に取り組んでおります。

岩城製薬ファインケミカル受託製品

受託範囲

受託の範囲

主要・得意反応

得意反応

  • 還元
  • 光学分割
  • 酸化
  • 配糖化
  • ブロム化
  • リン酸エステル化
  • Friedel-Crafts 反応
  • Kolbe-Schmitt 反応
  • 鈴木-宮浦 反応

【主要反応】

アシル化 酸クロライド、酸無水物などによる
アミド化 アンモニア、各種アミンなどによる
アミノ化 ニトロ、ニトロソの還元および各種アミンによる
アルキル化 ジアルキル硫酸、アルキルハライドによる
エステル化 各種有機酸および無機酸とアルコール類による
還元 接触水添、NaBH4、亜硫酸などによる
クロル化 NaClO、SOCl2、PCl3、POCl3などによる
光学分割 分割剤、酸素不斉加水分解
酸化 1) 光酸化(ナトリウムランプによる) 2) H2O2,NaClO、PbO2などによる
ジアゾ化 NaNO2による
シアノ化 -CONH2 → -CN
スルホン化 硫酸、発煙硫酸、三酸化硫黄ピリジン錯体による
ニトロ化 硝酸、混酸などによる
ニトロソ化 NaNO2による
配糖化 BF3、メタンスルホン酸による
ブロム化 Br2による
ホルミル化 HCHO、Vilsmeier反応などによる
リン酸エステル化 POCl3、PCl3などによる
Friedel - Crafts反応 塩化アルミニウムによる
Kolbe - Schmitt反応 炭酸ガスによる
Grignard反応 RMgBrによる
光延反応 DIADによる
鈴木-宮浦反応 R-B(OH)2、Pd/Cによる
その他各種有機合成反応  
酵素反応 不斉加水分解、加水分解
天然物抽出  
無機合成  

得意技術

接触還元

接触還元

フリーデル・クラフツ反応

フリーデル・クラフツ反応

光反応(酸化)

光反応(酸化)

配糖化

配糖化

ブロム化反応

ブロム化反応

リン酸エステル化反応

リン酸エステル化反応

コルベシュミット

コルベシュミット

ピラゾロン誘導体

ピラゾロン誘導体

グリニャール反応

グリニャール反応

還元

還元

光延反応

光延反応

鈴木カップリング

鈴木カップリング

設備紹介

主要設備

設備 仕様 容量
反応装置
常圧~100mmHg
-5~140℃(200℃) 
グラスライニング 2,000L 4基
3,000L 7基
4,000L 9基
5,000L 3基
7,000L 10基
10,000L 4基
ステンレス 1,000L 3基
2,000L 9基
3,000L 17基
4,000L 13基
5,000L 11基
6,000L 3基
7,000L 12基
10,000L 3基
チタンクラッド 2,500L 2基
加圧反応装置
~1MPa
-5~140℃
ステンレス 1,500L 1基
2,000L 1基
4,000L 3基
グラスライニング 4,000L 1基
光反応装置
600~700nm
ステンレス ナトリウムランプ   1基
真空蒸留装置
2mmHg、~180℃
N=12
ステンレス 1,000L 1基
3,200L 1基
7,000L 1基
遠心分離機 底排型 ステンレス φ24~55インチ 7基
上排型 ステンレス φ24~55インチ 21基
濾過分離器 加圧 ステンレス   21基
減圧 ステンレス   29基
減圧 FRP   2基
乾燥機 棚段送風式 ステンレス   28基
コニカル真空式 ステンレス 2,000~2,500L 6基
コニカル真空式 グラスライニング 2,000L 2基
ナウター型真空式 ステンレス 1,000L 3基
ナウター型真空式 ステンレス 2,000L 5基
粉砕機 ピンミル ステンレス   9基
ハンマーミル ステンレス   4基
パワーミル ステンレス   2基
ジェット ミル   1基
クリーンルーム 清浄度 10万/ft3
換気 20回/hr<
遠分室 10室
乾燥室 10室
粉砕室 10室
製氷機 ステンレス
10t/日
  1基
廃水処理 活性汚泥    
冷凍機 媒体 -20℃
缶内 -5~-10℃
46kW 14基

パイロットプラント設備

設備 仕様 容量
反応装置
常圧
-5~140℃(200℃) 
ガラス 10L 5基
グラスライニング 300L 5基
ステンレス 300L 3基
500L 1基
1,000L 1基
加圧反応装置
~1MPa
-5~140℃
ステンレス 200L 1基
真空蒸留装置
3mmHg
~200℃
ステンレス 200L 1基
遠心分離機 上排型 ステンレス φ12インチ 1基
φ20インチ 2基
φ30インチ 1基
濾過分離機 加圧 ステンレス   2基
減圧 ステンレス   2基
乾燥機 棚段送風式 ステンレス   1基
棚段真空式 ステンレス   1基
コニカル真空式 ステンレス 30L 1基
クリーンルーム 清浄度10万/ft3
換気20回/hr以上
  1室
冷凍機
媒体-20℃
3600kcal/hr   1基

主要分析機器

機器 仕様
HPLC 高圧・低圧グラジェント
検出器:UV、UV-VIS、RI、蛍光、PDA
分取 HPLC
GPC 低圧グラジェント
検出器:RI、PDA
GC 検出器:FID
ヘッドスペース試料導入装置付き
NMR 300MHz
多核測定対応
(1H、13C、15N、17O、19F、29Si、31P等)
LC/MS/MS トリプル四重極型
APCIインタフェース
LC/MS シングル四重極型
DUISインタフェース
ICPーMS ICH-Q3D Step4 対象元素対応
有機溶媒対応
FT-IR 7800~350cm-1
紫外線可視分光光度計 190~900nm
示差熱・熱重量測定装置 室温~1100℃
カールフィッシャー水分計 容量法
電量法
電位差滴定装置 pH0.00~14.00
-2000~2000mV
旋光計 589nm(Na)
粒度分布測定装置 レーザー回折式、顕微鏡式、空気透過法
X線回折装置 X線源:Cu、600W
原子吸光装置 ファーネス法(185~900nm)

受託製造の流れ

実験担当者が試験製造、実製造トライアル、その後の改良まで一貫して担当します。

引き継ぎなどによる時間的ロス、連絡ミスなどを回避しております。

受託製造の流れ